65nm工艺下MOSFET阈值电压提取方法研究

来源 :赤峰学院学报(自然科学版) | 被引量 : 0次 | 上传用户:xiaochouyu005
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阈值电压Vth决定了反型沟道的建立,也就意味着MOSFET工作的开启.因此,精确地测算出阈值电压Vth是对设备特性描述的关键所在.提取阈值电压的方法很多,本文主要介绍了常数电流法、线性外推法、平方外推法、跨导线性外推法、二阶求导法和分离C-V法六种阈值电压的提取方法的原理并在65nm工艺下进行了仿真验证.本文还分析了阈值电压的温度特性和阈值电压与栅长的关系,并对这六种方法进行了总结,得出线性外推法是最简便且更准确的阈值电压提取方法.
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