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准分子激光晶化制备TFT多晶硅薄膜的研究进展
准分子激光晶化制备TFT多晶硅薄膜的研究进展
来源 :微电子学 | 被引量 : 0次 | 上传用户:Keldorn
【摘 要】
:
对准分子激光晶化制备TFT用多晶硅薄膜的研究进展进行了综述。介绍了晶化过程中的超级横向生长现象。主要结合各种基于光束调制和光刻技术的人工控制超级横向生长方法,讨论了
【作 者】
:
言益军
戴永兵
王俊
孙宝德
【机 构】
:
上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室
【出 处】
:
微电子学
【发表日期】
:
2006年1期
【关键词】
:
TFT
多晶硅薄膜
准分子激光晶化
人工控制超级横向生长
Thin film transistor
Poly-silicon film
Excimer la
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对准分子激光晶化制备TFT用多晶硅薄膜的研究进展进行了综述。介绍了晶化过程中的超级横向生长现象。主要结合各种基于光束调制和光刻技术的人工控制超级横向生长方法,讨论了获得大晶粒尺寸优质多晶硅薄膜的途径。
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