二维光折变缺陷光子晶格的制作

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研究了一种制作缺陷光子晶格的新方法,即交叉相位法。利用此方法,成功地在(2+1)维12μm×12μm的光子晶格中构造了微米量级的线缺陷和点缺陷,验证了此方法在构造缺陷光子晶格的可行性和优越性。
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