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【正】薄膜镀制是固态的膜层材料在真空条件下蒸发或者溅射,经过气相传输,在基片表面沉积成薄膜。相同的薄膜设计,因操作人员、时间、设备、工艺参数等的不同,结果相差甚大。影响薄膜特性的工艺参数非常多,但对于这些工艺参数的测控却非常有限。举例来说,
真空镀膜工艺参数对于薄膜性能的影响
【摘 要】
：
【正】薄膜镀制是固态的膜层材料在真空条件下蒸发或者溅射,经过气相传输,在基片表面沉积成薄膜。相同的薄膜设计,因操作人员、时间、设备、工艺参数等的不同,结果相差甚大。
【机 构】
：
山东北方光学电子有限公司
【出 处】
：
国防制造技术
【发表日期】
：
2011年5期
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