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半导体企业对生产用水的水质要求极高,该行业快速发展对超纯水系统的需求日趋旺盛。超纯水系统的投资成本和运行成本远高于其它水处理系统,且工艺运行的稳定性要求高,企业用户难以选择。为此,本文以某半导体企业的超纯水站为例,从工艺路线、投资和运行成本、运行管理和二次污染治理等方面探讨了针对基于18MΩ.cm水质要求的小水量超纯水制备系统的最适工艺系统。结果表明:采用两级RO结合EDI制备超纯水在一次性投资费用、运行费用、自动控制与管理、二次污染排放等方面更有优势,将成为未来半导体行业小型超纯水站的主流工艺。