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期刊论文
电镀铜晶核生长不均衡问题的研究
电镀铜晶核生长不均衡问题的研究
来源 :2018中日电子电路秋季大会暨秋季国际PCB技术/信息论坛 | 被引量 : 0次 | 上传用户:KOUHUIKING
【摘 要】
:
随着客户需求的不断变化,树脂塞孔的工艺流程在印制电路板产业的应用越来越广泛,但是经过陶瓷研磨后的印制电路板,电镀可能因为铜晶核生产不均衡出现铜粒、粗糙。文章以此为研究对象,简述产生的影响因素,并提出可行性建议,提供改善思路和方向。
【作 者】
:
吴辉
罗畅
陈黎阳
【机 构】
:
广州兴森快捷电路科技有限公司,广东广州510663 深圳市兴森快捷电路科技股份有限公司,广东深圳5
【出 处】
:
2018中日电子电路秋季大会暨秋季国际PCB技术/信息论坛
【发表日期】
:
2018年9期
【关键词】
:
电镀
铜粒
粗糙
陶瓷研磨
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随着客户需求的不断变化,树脂塞孔的工艺流程在印制电路板产业的应用越来越广泛,但是经过陶瓷研磨后的印制电路板,电镀可能因为铜晶核生产不均衡出现铜粒、粗糙。文章以此为研究对象,简述产生的影响因素,并提出可行性建议,提供改善思路和方向。
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