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我们用常压化学气相沉积法（ＡＰＣＶＤ），以ＳｉＨ４和ＮＨ３为先驱体，在较低的温度下制备氮氧化硅（Ｓｉ－Ｏ－Ｎ）薄膜，并对其性能进行了研究。研究结果表明氮氧化氮氧化硅薄膜难使改性后平板玻璃硬度提高４０％，并具有良好的抗高温氧化性，这种薄膜在材料表面改性伪装菜着广阔的应用前景。
常压化学气相沉积法的氮氧化硅薄膜性能的研究
【摘 要】
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我们用常压化学气相沉积法（ＡＰＣＶＤ），以ＳｉＨ４和ＮＨ３为先驱体，在较低的温度下制备氮氧化硅（Ｓｉ－Ｏ－Ｎ）薄膜，并对其性能进行了研究。研究结果表明氮氧化氮氧化硅薄膜难使改性后平板玻璃硬度提高４０％，并具有良好的抗高
【出 处】
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硅酸盐通报
【发表日期】
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2000年2期
【基金项目】
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国家自然科学基金,,浙江省151人才工程资助
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