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目的:探讨抛光工具对树脂表面微观结构的影响并与离体天然牙釉质表面进行比较。方法:将5种树脂试件(n=9)随机各分为3组(n=3):Astropol抛光(A)组、Sof-Lex抛光(B)组、Super-snap抛光(C)组,分别进行抛光,对照(D)组为离体牙釉质表面。原子力显微镜测试试件表面粗糙度和微观结构。结果:抛光后A组的Ra值低于B组(P=0.015);Z350 XT树脂抛光后获得的Ra值最低(P<0.05);用3种不同的抛光工具抛光5种不同的树脂与对照组的Ra值比较无统计学差异(P>0.05)。结论:Astropol抛光工具效果优于Sof-Lex;Z350 XT与其它4种树脂相比有更好的抛光性能;3种抛光工具对5种树脂抛光均有效。