一种带埋层的新型结终端技术

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在高压功率器件领域,常规的场限环技术由于环的个数较多,占用芯片面积较大,导致终端的效率很低。为了改善这一缺点,提出了一种带P-埋层的新型高压终端技术,有效降低了主结边缘处的电场集中,提高了击穿电压。仿真结果表明,该结构的击穿电压达到3439V,终端的长度为1000μm,较常规的场限环结构1500μm(英飞凌公司3300V产品)节省了近30%的终端面积。
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