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在大田条件下研究了不同UV-B辐射强度及种植密度对大麦生长发育的影响。UV-B辐射强度设4个水平,即对照(自然光)、E1(比对照增强10%)、E2(比对照增强20%)和E3(比对照增强30%);种植密度(播种量)设3个水平,即D1(5.56 g/m2)、D2(11.11 g/m2)和D3(16.67 g/m2)。结果表明,UV-B辐射增强明显抑制大麦生长,使植株变矮,绿叶面积和干物质量下降,且辐射越强,抑制作用越明显,但抑制程度随生育期而异。在自然光下,增大种植密度可使株高增加,绿叶面积和干物质量下降;UV-B辐射增强20%处理下,增大种植密度可减轻UV-B辐射增强对大麦生长的抑制作用。在UV-B辐射增强条件下,适当提高大麦种植密度,可降低UV-B辐射增强对大麦生长的不利影响。