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与现有的金刚石膜抛光工艺相匹配的高效刻蚀技术，是目前研究的热点。自行研制的稀土化合物浆料对CVD金刚石厚膜进行了刻蚀研究，刻蚀过程在低于金刚石氧化点的温度下和大气环境中完成。其刻蚀结果，用扫描电子显微镜给出。实验表明,该工艺采用廉价的稀土化合物为原料，具有简单、安全、高效的特点。
CVD金刚石厚膜的稀土化合物浆料刻蚀
【摘 要】
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与现有的金刚石膜抛光工艺相匹配的高效刻蚀技术，是目前研究的热点。自行研制的稀土化合物浆料对CVD金刚石厚膜进行了刻蚀研究，刻蚀过程在低于金刚石氧化点的温度下和大气环境
【机 构】
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吉林大学,吉林大学超硬材料国家重点实验室,吉林大学物理系
【出 处】
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功能材料与器件学报
【发表日期】
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2001年3期
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