NiMn薄膜的无序有序转变

来源 :北京科技大学学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：kj8231926

【摘要】

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研究了Si/Ta/NiMn/Al和Si/Ta/NiFe/NiMn/Al多层膜中NiMn薄膜经300 oC 5 h不同次数循环退火后的有序化情况.X射线衍射定量计算结果表明,高温循环退火能极大地促进NiMn薄膜的有

【作者】

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曾立荣彭子龙朱逢吾赖武彦

【机构】

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北京科技大学材料科学与工程学院,华中科技大学电子科学与技术系,中科院物理所

【出处】

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北京科技大学学报

【发表日期】

：

2002年1期

【关键词】

：

有序化循环退火镍锰薄膜有序相微观结构 fcc无序相多层膜 fct反铁磁相 thin films NiMn atomic ordering

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研究了Si/Ta/NiMn/Al和Si/Ta/NiFe/NiMn/Al多层膜中NiMn薄膜经300 oC 5 h不同次数循环退火后的有序化情况.X射线衍射定量计算结果表明,高温循环退火能极大地促进NiMn薄膜的有序化.NiMn薄膜中有序相的含量随退火循环数的增加而持续增加.但含NiFe层的膜有序化过程要比无NiFe层时缓慢.显然,NiFe对NiMn的有序化有阻碍作用.

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