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<正>随着硅珊MOS器件的出现,多晶硅渐渐成为先进器件材料的主力军。除了用作MOS栅极之外多晶硅还广泛应用于DRAM的深沟槽电容极扳填充,闪存工艺中的位线和字线。这些工艺的实现都离不开硅的干法刻蚀技术其中还包括浅槽
硅的干法刻蚀简介
【摘 要】
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<正>随着硅珊MOS器件的出现,多晶硅渐渐成为先进器件材料的主力军。除了用作MOS栅极之外多晶硅还广泛应用于DRAM的深沟槽电容极扳填充,闪存工艺中的位线和字线。这些工艺的实
【出 处】
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集成电路应用
【发表日期】
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2008年04期
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