【摘 要】
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通过用电沉积法在铜片表面上生长了具有双尺寸粗糙度的铜膜，并用扫描电镜（SEM）、X射线能量色散谱（EDX）、×射线衍射仪（XRD）、接触角测量仪以及电化学工作站等对其进行详细表征。
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通过用电沉积法在铜片表面上生长了具有双尺寸粗糙度的铜膜，并用扫描电镜（SEM）、X射线能量色散谱（EDX）、×射线衍射仪（XRD）、接触角测量仪以及电化学工作站等对其进行详细表征。结果表明，所得铜表面是由纳米片组成的微米花组成。经硬脂酸修饰后，所得铜表面具有优异的超疏水性、不粘附性和耐腐蚀性能；与水的表面接触角高达167°，滚动角低至1．8°。超疏水性能归因于铜片表面上的微纳米结构以及低表面能的硬脂酸分子。
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