【摘 要】
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采用真空离子镀膜机在SiO2玻璃基片表面分别蒸镀Cu和Al薄膜，3组参数6次制备12个铝或铜薄膜试样．实验表明：相同工艺条件下，铝膜较铜膜附着力更强，膜厚更大，更易形成薄膜且结构均匀致
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采用真空离子镀膜机在SiO2玻璃基片表面分别蒸镀Cu和Al薄膜，3组参数6次制备12个铝或铜薄膜试样．实验表明：相同工艺条件下，铝膜较铜膜附着力更强，膜厚更大，更易形成薄膜且结构均匀致密．经测试可知：当铝膜的轰击电压为175V，烘烤电压为160V，蒸镀时间为2h、铜膜的轰击电压为200V，烘烤电压为100V，蒸镀时间为1．8h，制得的样品纯度高，杂质含量少，微观结构与膜厚最理想，界面结构规范，平滑，吸附力强，薄膜界面微观粗糙性和形状较佳．
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