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以石墨为基体材料，采用电沉积和毛细化学沉积方法制备出电活性NiHCF薄膜。通过EDS和SEM考察了薄膜组成及其形貌，在1mol／l KNO3溶液中采用电势循环可逆地置入与释放K离子，比较了不同制备方法得到的NiHCF薄膜的电活性、离子交换容量、再生性能和循环寿命；在1mol／l（KNO3＋CsNO3）混合溶液中测定了不同浓度下薄膜的伏安特性曲线，分析了薄膜对Cs^＋，K^＋的选择性。实验表明，石墨基体上制得的NiHCF膜能实现电化学控制的离子交换（ESIX）过程；两种方法制得的薄膜对Cs^＋均有较强的选择