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本文提出了一台高分辩率激光扫描光刻系统的对准性能数据。该系统采用了通过成像物镜进行对准的同轴对准原理(TTL),其具有多束光路、亮场和暗场照明及高低倍放大光学系统的特点。整机的总套刻精度优于0.1μm。
0.6NA,364nm波长激光束直接描画机的对准性能
【摘 要】
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本文提出了一台高分辩率激光扫描光刻系统的对准性能数据。该系统采用了通过成像物镜进行对准的同轴对准原理(TTL),其具有多束光路、亮场和暗场照明及高低倍放大光学系统的特
【出 处】
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电子工业专用设备
【发表日期】
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1992年3期
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