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提出了一种新型的磁介质辅助抛光技术，用于高精度光学表面的数控抛光。在强磁场的作用下,磁介质吸附在磁轮上并沿着磁力线方向排列起来，形成环状凸起 “磁性抛光刷”。磁轮高速旋转时，循环注入抛光液，对工件表面实现材料去除。完成了磁介质辅助抛光工具设计、制造，以及与数控机床的组装调试。采用K9玻璃工件进行了工艺实验，获得了去除函数分布及表面粗糙度。