Aldol反应中TBS保护基迁移现象

来源 :有机化学 | 被引量 : 0次 | 上传用户：xiaomi1028

【摘要】

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有机合成中,硅保护基(TBSCl,TESCl,TBDPSCl,TIPSCl,TMSCl等)是一种应用极为普遍的羟基官能团保护基[1].但是,该类保护基经常发生迁移(重排)现象,从而使得反应(或产物)较为复

【作者】

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彭立增梅天胜张逢质李裕林

【机构】

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山东省临沂市临西七路鲁南制药厂

【出处】

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有机化学

【发表日期】

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2003年z1期

【基金项目】

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国家自然科学基金(No.20072012)和高校博士学科专项基金(No.20010730001)资助项目.

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有机合成中,硅保护基(TBSCl,TESCl,TBDPSCl,TIPSCl,TMSCl等)是一种应用极为普遍的羟基官能团保护基[1].但是,该类保护基经常发生迁移(重排)现象,从而使得反应(或产物)较为复杂.我们在研究过程中首次发现α-硅氧酮2与各类醛1的Aldol反应中硅保护基(TBSCl,TBDPSCl等)也能发生迁移,结果如Scheme 1所示.……

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