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采用金属有机化学气相淀积方法生长了α－Ａｌ２Ｏ３衬底上外延的高质量的单晶ＧａＮ薄膜。Ｘ射线衍射光谱与喇曼散射光谱表征了ＧａＮ外延薄膜的单晶结构和单晶质量。透射光谱和光调制反射光谱定出了六角单晶ＧａＮ薄膜的直接带隙宽度和光学参数。
α—Al2O3衬底上生长的GaN膜的光学性质
【摘 要】
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采用金属有机化学气相淀积方法生长了α－Ａｌ２Ｏ３衬底上外延的高质量的单晶ＧａＮ薄膜。Ｘ射线衍射光谱与喇曼散射光谱表征了ＧａＮ外延薄膜的单晶结构和单晶质量。透射光谱和光调制反射光谱定出了六
【机 构】
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南京大学物理系,美国马里兰大学电子工程系
【出 处】
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高技术通讯
【发表日期】
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1996年10期
【基金项目】
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国家教委跨世纪人才专项基金,国家自然科学基金
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