【摘 要】
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本文给出了几种采用LOCOS隔离技术,未经加固的商品化1.25μm体CMOS工艺的辐照响应结果。在所有的研究中,辐照诱发失效都是由于场氧化效应而造成的,沟道区的辐照诱发变化⊿V_T
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本文给出了几种采用LOCOS隔离技术,未经加固的商品化1.25μm体CMOS工艺的辐照响应结果。在所有的研究中,辐照诱发失效都是由于场氧化效应而造成的,沟道区的辐照诱发变化⊿V_T在失效剂量下通常很小。本文给出并讨论了场氧化层的漏电流与时间的依赖关系。
In this paper, we present the results of several radiation responses using LOCOS isolation technology, an unmodified 1.25μm bulk CMOS process. In all studies, the radiation-induced failure was due to the field oxidation effect, and the radiation-induced change in the channel region, ⊿V_T, was usually small at failure doses. This paper presents and discusses the dependence of field oxide leakage current on time.
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