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介绍了硅的理化特性以及在光学薄膜设计中的应用特点。对电子束沉积硅薄膜时的温度、真空度进行了确定,并对其沉积速率的稳定性以及石墨坩埚的使用方法进行了研究。利用分光光度法测定了硅膜在0.5μm～5μm波段范围内的折射率分布曲线。
硅在红外光学薄膜中的应用研究
【摘 要】
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介绍了硅的理化特性以及在光学薄膜设计中的应用特点。对电子束沉积硅薄膜时的温度、真空度进行了确定,并对其沉积速率的稳定性以及石墨坩埚的使用方法进行了研究。利用分光
【机 构】
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中山火炬职业技术学院;
【出 处】
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真空
【发表日期】
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2004年期
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