蔡司模拟光刻机的应用

来源 :集成电路应用 | 被引量 : 0次 | 上传用户：mongming8125

【摘要】

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<正> 随着半导体微电子技术的发展与进步,集成度不断提高,器件的特征尺寸不断缩小。相应的集成电路制造用掩膜板(Reticle/Mask)也变得越来越复杂,象现在正逐渐广泛应用的光学

【作者】

：

张顺勇

【出处】

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集成电路应用

【发表日期】

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2003年6期

【关键词】

：

蔡司公司模拟光刻机应用空间影像量测系统掩膜板光学邻近效应修正

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<正> 随着半导体微电子技术的发展与进步,集成度不断提高,器件的特征尺寸不断缩小。相应的集成电路制造用掩膜板(Reticle/Mask)也变得越来越复杂,象现在正逐渐广泛应用的光学邻近效应修正(OPC)掩膜、相位转移(Phase Shift)掩膜。无论是现在还是未来,要在芯片上制作更小尺寸器件,离不开掩膜技

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