PLD方法在CVD金刚石膜上生长ZnO薄膜及其特性研究

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采用脉冲激光沉积(PLD)技术,在(110)和(100)织构金刚石膜上成功制备出高度c-轴取向的ZnO薄膜,然后在纯氮气氛条件下对ZnO薄膜进行退火处理。作为比较,也在(100)Si上生长的ZnO薄膜进行了相同的处理。通过测量X射线衍射(XRD)谱和光致发光(PL)谱,研究了不同衬底性质和退火对薄膜结构和发光特性的影响。实验结果表明,在(100)织构金刚石上的ZnO膜具有最好的结晶质量,其半高宽只有0.2°。退火之后近紫外发光峰明显减弱的同时,绿色发光峰得到增强。这里归结为氮气退火后氧空位的增加,这点从退火后的XPS谱中可以得到进一步的确认。
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