铜及其合金的稀酸化学抛光

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本文研究了铜及其合金在稀酸溶液中化学抛光的效果,并对酸的种类、浓度、过氧化氢、脂肪醇、温度、时间等的影响进行了讨论.认为合适的化学抛光溶液和工作条件为:H2SO42~6mL/L,H2O2100~150mL/L,乙醇40~60mL/L,时间15~30分,温度15~35℃.
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ue*M#’#dkB4##8#”专利申请号:00109“7公开号:1278062申请日:00.06.23公开日:00.12.27申请人地址:(100084川C京市海淀区清华园申请人:清华大学发明人:隋森芳文摘:本发明属于生物技
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