【摘 要】
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的 研究非均相沉淀法制备3%氧化钇稳定的四方氧化锆多晶陶瓷（3Y-TZP）/3%Al2O3复合粉的最佳pH值;3Y-TZP/3%Al2O3/10%BN双相包覆中,合成Al2O3及非晶氮化硼（BN）的最佳热处理温度。方
【机 构】
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中国人民解放军总医院口腔科,云南省玉溪市人民医院口腔科,北京科技大学新材料技术研究院
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的 研究非均相沉淀法制备3%氧化钇稳定的四方氧化锆多晶陶瓷（3Y-TZP）/3%Al2O3复合粉的最佳pH值;3Y-TZP/3%Al2O3/10%BN双相包覆中,合成Al2O3及非晶氮化硼（BN）的最佳热处理温度。方法 不同pH值（6.5、7.5、8.5、9.5）下,通过非均相沉淀法合成Al2O3前驱体包覆3Y-TZP粉,通过透射电镜（TEM）选出包覆形貌较均匀的一组。将此pH下制备的复合粉经不同的温度（800、1 000、1 200、1 400 ℃）处理后,硼酸尿素反应烧结法（N2保护下,850 ℃煅烧
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