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利用扫描电镜、透射电镜方法，观察氮离子束注入对芦荟细胞壁结构的影响。扫描电镜观察结果显示,在离子注入剂量达1×10^16N^＋／cm^2时，叶片表面发现了离子柬刻蚀的小洞。透射电镜半薄切片观察也发现离子束轰击后，芦荟叶片表皮的横切面都有不同程度被打烂的情况，初步认为是离子柬轰击引起的刻蚀效应，这与扫描电镜的观察结果相一致。研究结果可为离子束介导转基因技术的研究提供参考。