【摘 要】
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研究以氧化铝作为留硅剂的最佳蒸煮工艺,结果表明:在氧化铝用量4.0%、氢氧化钠碱量14%、蒸煮最高温度150℃、保温时间10min、液比1:4的条件下,所得浆料具有最好的留硅效果。
【机 构】
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陕西科技大学,陕西省造纸技术及特种纸品开发重点实验室,
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研究以氧化铝作为留硅剂的最佳蒸煮工艺,结果表明:在氧化铝用量4.0%、氢氧化钠碱量14%、蒸煮最高温度150℃、保温时间10min、液比1:4的条件下,所得浆料具有最好的留硅效果。
The best digestion process using alumina as the residual silicon agent was studied. The results showed that under the conditions of 4.0% alumina, 14% sodium hydroxide, 150 ℃ cooking temperature, 10min holding time and 1: 4 liquid ratio , The resulting slurry has the best silicon retention effect.
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