氧化液pH值对低温沉积Ni-Zn铁氧体薄膜的结构和磁性能的影响

来源 :磁性材料及器件 | 被引量 : 0次 | 上传用户：lzm8020117

【摘要】

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用FeCl2＋NiCl2＋ZnCl2组成的还原液和CH3COONH4＋NH3H2O＋NaNO2组成的氧化液不断地向转盘上的玻璃基片喷镀,在90℃下反应制备了厚度1-2μm的Ni-Zn铁氧体薄膜。X射线衍射（XRD）显示制备

【作者】

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胡清平董泽华柏任流沈翔冯则坤黄诞枫

【机构】

：

华中科技大学化学系,华中科技大学电子科学与技术系

【出处】

：

磁性材料及器件

【发表日期】

：

2007年3期

【关键词】

：

Ni-Zn铁氧体薄膜旋转喷镀法微结构磁性能 Ni-Zn ferrite films spin-spray plating method microstru

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用FeCl2＋NiCl2＋ZnCl2组成的还原液和CH3COONH4＋NH3H2O＋NaNO2组成的氧化液不断地向转盘上的玻璃基片喷镀,在90℃下反应制备了厚度1-2μm的Ni-Zn铁氧体薄膜。X射线衍射（XRD）显示制备的薄膜具有尖晶石结构铁氧体的特征衍射峰。当氧化液的pH值从8.0增大到8.8时,薄膜的沉积速率和表面粗糙度都相应提高。氧化液pH值等于8.8时薄膜组成为Ni^2＋0.43Zn^2＋0.09Fe^2＋0.48Fe^3＋2O4。制备的薄膜显示了210.3kA/m的高饱和磁化强度和1.218k

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