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综述了紫外光曝光的抗蚀剂、电子射线抗蚀剂、Ｘ射线抗蚀剂、电沉积抗蚀剂的组成、成像原理和分辨率，并对几种高性能抗蚀剂的原理及用于抗蚀剂的新材料做了介绍。
抗蚀剂的研究进展
【摘 要】
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综述了紫外光曝光的抗蚀剂、电子射线抗蚀剂、Ｘ射线抗蚀剂、电沉积抗蚀剂的组成、成像原理和分辨率，并对几种高性能抗蚀剂的原理及用于抗蚀剂的新材料做了介绍。
【机 构】
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四川大学高分子材料工程国家重点实验室
【出 处】
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材料导报
【发表日期】
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2000年6期
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