【摘 要】
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本文在论述真空溅射镀膜的工艺基本环境——异常辉光放电的基础上，阐述了电源的几点要求；提出当前在技术上解决适应真空溅射镀膜的直流电源的几个方案；本文论述了其中第二代采用
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本文在论述真空溅射镀膜的工艺基本环境——异常辉光放电的基础上，阐述了电源的几点要求；提出当前在技术上解决适应真空溅射镀膜的直流电源的几个方案；本文论述了其中第二代采用晶阐管的解决方案，给出了“特性曲线”，该电源具有“陡降”特性，电流稳定度可达±１％。
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