晶体硅薄膜电池制备技术及研究现状

来源 :材料科学与工程学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：catloveless

【摘要】

：

晶体硅薄膜太阳电池近些年来得到广泛的研究和初步的商业化探索.根据所采用的晶体硅薄膜沉积工艺中温度范围的不同,晶体硅薄膜电池研究可分为高温路线和低温路线两个不同发展

【作者】

：

梁宗存沈辉许宁生

【机构】

：

中国科学院广州能源研究所,中国科学院广州能源研究所,中山大学物理系

【出处】

：

材料科学与工程学报

【发表日期】

：

2003年4期

【关键词】

：

晶体硅薄膜太阳电池制备技术温度沉积 crystalline silicon thin film solar cells deposition effi

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晶体硅薄膜太阳电池近些年来得到广泛的研究和初步的商业化探索.根据所采用的晶体硅薄膜沉积工艺中温度范围的不同,晶体硅薄膜电池研究可分为高温路线和低温路线两个不同发展方向.本文分别从这两个方向综述了目前国外晶体硅薄膜电池制备技术的最新进展,最新实验室研究结果.报导了晶体硅薄膜电池商业化进展状况,指出了晶体硅薄膜电池实现产业化必须解决的问题.

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