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超声波清洗技术是半导体材料制备的主要清洗方法，极大地提高了半导体材料制备的工作效率和清洗效果。阐述了超声波清洗作用原理。通过调节超声机功率密度、频率，进行晶片去蜡清洗实验，验证、分析了超声清洗过程中超声机功率密度、频率对晶片去蜡清洗的影响。
超声波去蜡清洗技术研究
【摘 要】
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超声波清洗技术是半导体材料制备的主要清洗方法，极大地提高了半导体材料制备的工作效率和清洗效果。阐述了超声波清洗作用原理。通过调节超声机功率密度、频率，进行晶片去蜡清
【机 构】
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中国电子科技集团公司第四十六研究所
【出 处】
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天津科技
【发表日期】
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2014年11期
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