PCVD法的发展现状和前景

来源 :光通信研究 | 被引量 : 0次 | 上传用户:ztsdc
下载到本地 , 更方便阅读
声明 : 本文档内容版权归属内容提供方 , 如果您对本文有版权争议 , 可与客服联系进行内容授权或下架
论文部分内容阅读
本文综述光纤制造工艺中的PCVD法的原理、发展过程和现状。其中主要叙述荷兰Philips公司发展的微波低压PCVD法。并对其前景作出肯定的评价。对其它的等离子体工艺也作一简介。 This paper reviews the principle, development and current situation of PCVD in optical fiber manufacturing process. Which mainly describes the development of the Netherlands Philips microwave low voltage PCVD method. And make a positive assessment of its prospects. A brief introduction to other plasma processes.
其他文献