Si3N4陶瓷高导热性的研究现状及发展趋势

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综述了Si3N4 陶瓷高热导性的研究现状及发展趋势.通过综合分析指出,晶间相和晶格氧是影响Si3N4 陶瓷热导率的主要因素,减少晶间相数量、优化晶间相分布以及减少晶格氧含量均能提高Si3N4 陶瓷热导率,今后的研究趋势是选择合适的原料和烧结助剂.
其他文献
以钛酸四丁酯、硫脲和硼酸为原料,采用溶胶-水热法制备了 B-S-TiO2光催化剂.通过 TG-DTA、XRD、FT-IR、UV-Vis、PL等手段对样品进行表征和分析,研究了不同热处理温度对共掺杂