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美国莱斯大学（Rice University）和北卡罗莱纳州立大学的一个研究小组日前公布了一种新工艺：把分子贴到半导体硅表面。研究小组声称，这种方法有助于电子制造商超越当前摩尔定律的极限，从而可以制造出体积更小、性能更强的微处理器。
新工艺超越摩尔定律限制
【摘 要】
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美国莱斯大学（Rice University）和北卡罗莱纳州立大学的一个研究小组日前公布了一种新工艺：把分子贴到半导体硅表面。研究小组声称，这种方法有助于电子制造商超越当前摩尔定律的
【出 处】
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今日电子
【发表日期】
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2009年10期
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