Ag—Cu亚稳态合金薄膜的共溅射法制备及其特性研究

来源 :现代仪器 | 被引量 : 0次 | 上传用户:danielwu
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采用共溅射法,于不同温度下在玻璃基底上沉积Ag—Cu薄膜。X衍射(XRD)分析表明,当基片温度为100℃和200℃时,形成的是Ag-Cu亚稳态合金;而当温度升高到300℃以上时,形成的则是Ag和Cu的分离相。通过X光电子能谱(XPS)法测量不同温度下沉积薄膜的Ag和Cu原子含量比,发现基片加热温度对沉积元素的相对比有一定影响。原子力显微镜(AFM)检测表明,随着加热温度的升高,薄膜表面的粗糙度增加,颗粒尺寸增大。分析认为,在温度较低时,原子热激活能相对较低,不足以发生迁移,形成Ag—Cu亚稳态合金;而当温
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