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感应耦合等离子体干法刻蚀锑化铟薄膜研究

来源 :固体电子学研究与进展 | 被引量 : 0次 | 上传用户：mqzt521

【作 者】

：

陈俊芳  吴先球  孙番典  赵智昊  樊双利  符斯列  黄钊 

【出 处】

：

固体电子学研究与进展

【发表日期】

：

2004年09期

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