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为改善940nm大功率InGaAs/GaAs半导体激光器输出特性,通过模拟计算了非对称波导层及限制层结构的光场分布,并参照模拟制作了非对称结构半导体激光器器件。采用低压金属有机物气相沉积(LP—MOCVD)生长技术,获得了低内吸收系数的高质量外延材料,通过实验数据计算得到激光器材料内吸收系数仅为0.44mm-1。进而通过管芯工艺制作了条宽100μm、腔长2000μm的940nm半导体激光器器件。25℃室温10A直流连续(CW)测试镀膜后器件阈值电流251mA,斜率效率1.22W/A,最大输出功率达到9.6