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蚀刻技术在VFD栅网制作中的突破
蚀刻技术在VFD栅网制作中的突破
来源 :信息记录材料 | 被引量 : 0次 | 上传用户:A2335767
【摘 要】
:
VFD栅网以其超细的线度和高度的均匀性,提出了蚀刻技术的新课题,促成了蚀刻技术的新突破.
【作 者】
:
裘华见
童雄生
【机 构】
:
华飞精密器件有限公司
【出 处】
:
信息记录材料
【发表日期】
:
2001年3期
【关键词】
:
VFD栅网
蚀刻技术
真空荧光显示屏
曝光工序
腐蚀工序
VFD Screen-Grid Etch technology Break through
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VFD栅网以其超细的线度和高度的均匀性,提出了蚀刻技术的新课题,促成了蚀刻技术的新突破.
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