【摘 要】
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目的研究Al靶直流溅射功率对Al掺杂ZnO（AZO）薄膜光电性能的影响。方法以金属Al和ZnO陶瓷作为靶材,采用直流与射频双靶磁控共溅射的方法,在玻璃基片上制备AZO薄膜。通过改变Al靶
【机 构】
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武汉科技大学材料与冶金学院,湖北文理学院物理与电子工程学院
【基金项目】
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国家自然科学基金（51302075,61302004）, 湖北省自然科学基金（ZRZ2015000203）
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目的研究Al靶直流溅射功率对Al掺杂ZnO（AZO）薄膜光电性能的影响。方法以金属Al和ZnO陶瓷作为靶材,采用直流与射频双靶磁控共溅射的方法,在玻璃基片上制备AZO薄膜。通过改变Al靶直流溅射功率,获得不同的薄膜。采用X射线衍射仪（XRD）、光电子能谱仪（XPS）、原子力显微镜（AFM）、紫外-可见分光光度计（UV-Vis）、四探针测试仪,对薄膜的微观形貌结构及光电性能进行表征和分析。结果所制备的AZO薄膜均具有C轴取向生长的六角纤锌矿结构,在可见光区域平均透过率超过90%,AZO薄膜的吸收边相比于Zn
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