中微3D VNAND闪存工艺的先进刻蚀机

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中微半导体设备有限公司宣布Primo SSC AD-RIE-TM(中微单反应台等离子体刻蚀设备)已交付韩国领先的存储器制造商。Primo SSC AD-RIE-TM是中微公司目前最先进的介质刻蚀设备,可用于1×纳米关键刻蚀工艺芯片加工。在此之前,中微的Primo SSC AD-RIE-TM已在韩国的16纳米最关键的刻蚀步骤上实现大批量生产。
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