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三氧化钨（WO3）以其较窄的带隙,成为继二氧化钛（TiO2）之后颇具发展潜力的n型半导体光催化剂.本文采用水热合成法,通过调控反应参数,如原料组成、沉淀时间等,合成了不同形貌和晶型的WO3;采用X射线衍射仪（XRD）、扫描电子显微镜（SEM）、透射电子显微镜（TEM）、傅里叶变换红外光谱（FT-IR）、氮气吸附-脱附（N2adsorption-desorption）等表征了所合成的WO3产品,发现原料组成、沉淀时间等条件对WO3的晶型和形貌都有影响;研究了所合成的WO3产品去除水中亚甲基蓝染料污染物的性能