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用反应溅射法制备了VOx薄膜。利用XPS分析技术，研究了薄膜组分与氧分压、基片材料、沉积厚度等工艺条件的关系。结果表明本工艺得到V2O5、VO2、V2O3复相膜，氧气流量大和较厚薄膜容易获得高价态V，衬底表面吸附氧会改变薄膜组分，V2O5、VO2含量高的薄膜电阻温度系数相对较高，V2O3不利于红外探测。