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高剂量刻离子注入和退火在硅中形成了氦微气泡和微孔。我们用剖面透射电镜显示了微孔的形貌。二次离子质谱和卢琴福背散射测试表明氦注入引起的微孔层对铜和金有明显的吸杂作用，且在１２００℃高浊罡吸杂仍具有稳定性，我们还与带氧沉淀的样品作了吸杂效果的比较。
硅中氦离子注入所产生的微孔结构的吸杂作用
【摘 要】
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高剂量刻离子注入和退火在硅中形成了氦微气泡和微孔。我们用剖面透射电镜显示了微孔的形貌。二次离子质谱和卢琴福背散射测试表明氦注入引起的微孔层对铜和金有明显的吸杂作
【机 构】
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上海市计量测试技术研究院材料分析室
【出 处】
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半导体学报
【发表日期】
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1999年6期
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