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本工作采用脉冲激光沉积法,以c-Al2O3为衬底,金属钌(Ru)镶嵌金属钒(V)圆片作为靶材,高纯氧气为反应气体,在不同沉积氧压下制备出一系列RuVO2合金薄膜.采用XRD、XPS、紫外-可见-近红外光谱仪、四探针测试仪等表征了薄膜的结构、成分及光电性能.实验结果表明:在不同沉积氧压下,薄膜均沿(010)晶面高度取向生长,薄膜的摇摆曲线半高宽在0.050°~0.091°之间,薄膜具有良好的结晶质量.低氧压(1.5 Pa)下制备的RuVO2薄膜成分严重偏离化学计量比而含有大量O空位缺陷.