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以ＭＰＣＶＤ法合成金刚石薄膜的实验结果为基础，深入分析了微波等离子体性质对金刚石薄膜沉积过程的影响，提出了解释金刚石薄膜不均匀沉积现象的新机理，即由微波等离子体中电子浓度的不均匀分布引起反应气相中过饱和原子氢浓度的不均匀分布所致。
导致金刚石薄膜不均匀沉积的机理
【摘 要】
：
以ＭＰＣＶＤ法合成金刚石薄膜的实验结果为基础，深入分析了微波等离子体性质对金刚石薄膜沉积过程的影响，提出了解释金刚石薄膜不均匀沉积现象的新机理，即由微波等离子体中电子浓度的不均
【机 构】
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清华大学
【出 处】
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金属学报
【发表日期】
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1997年6期
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