钽中硅的光谱法测定

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<正> 钽具有高熔点,高热电子发射能力、耐腐蚀、吸气性等优点,是重要的工业原料,广泛应用于国防、科研、生产等方面。因而对钽的纯度分析,要求越来越高。常用的氢氟酸-硝酸溶样法,反应激烈,易引起硅的损失,空白高亦是影响准确度的重要因素,测定下限为1×10-3~2×10-3%;光谱法测定灵敏度为5×10-4~2×10-3%;化学光谱法测定钽中其他杂质元素灵敏度很高,但不能测硅。本文对缓冲剂、电极规格、电流大小
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