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利用新型摄影了了聚合物膜将以富瓦烯修饰到电极表面上，并研究了修饰电极的电化学行为，研究了浸泡时间、扫描速度和支持电解质对修饰电极性能的影响；循环伏安法、计时电流法和交流阻抗法表明四硫富瓦烯在膜中的扩展是控制步骤。四硫富瓦烯在膜中的第一对氧化还的峰呈现可逆的，单电子反应。用循环伏安法测得了ＴＴＦ＋ＴＴＦ＋＋＝２ＴＴＦ＋的反应的平衡常数。