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详细地阐述了真空自励研磨抛光盘的工作方式、基本原理,并在对120×120mm厚径比小于1/60的超薄镜面实际加工中,成功解决了磨头自身重力对工件变形的影响,降低了元件在加工中支撑要求,有效地解决了超薄元件的数控加工难题.
真空自励研磨抛光工艺的研究
【摘 要】
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详细地阐述了真空自励研磨抛光盘的工作方式、基本原理,并在对120×120mm厚径比小于1/60的超薄镜面实际加工中,成功解决了磨头自身重力对工件变形的影响,降低了元件在加
【机 构】
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中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室,驻二二八厂军代表室
【出 处】
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光学精密工程
【发表日期】
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2001年3期
【基金项目】
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国家自然科学基金
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